SV沉积镀膜仪是专门为液相（尤其是sol-gel镀膜法）制备薄膜材料工艺的研究工作而设计制造，对不同液体通过浸渍提拉生成薄膜。提拉速度、提拉高度、浸涂时间、镀膜循环次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。SV沉积镀膜仪对镀膜基材形状无特殊要
产品货号：SV 产地：进口 价格：询价 点击数：1998 商家询价
可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪、旋涂仪、涂膜仪、涂覆仪、甩胶机、Programmable Spin Coater 薄膜沉积、粗饲料研究、资料控制、半导体薄膜、金属及玻璃、有机薄膜制备，光学镀膜及磁膜、液固界面镀膜、半导体、化工材料、硅片、晶圆片、光学玻璃、化学玻璃 原装进
产品货号：Spin-X 产地：原装进口可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪 价格：询价 点击数：3179 商家询价
浸涂仪(GIK沉积镀膜仪，垂直提拉机,浸胶机，浸涂机，浸渍涂膜机，浸渍提拉涂膜机,升降浸涂机，多槽)
产品货号：MV浸涂仪(沉积镀膜仪，垂直提拉机,浸胶机，浸涂机，浸渍涂膜 产地：原装进口垂直提拉机(GIK沉积镀膜仪，浸 价格：询价 点击数：5209 商家询价
多舱体式等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）/蚀刻（ETCH）系统、IL-50多舱体式PEVCD/ETCH系统IL-50多舱体式等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）/蚀刻（ETCH）系统具有沉积薄膜在光电池上的能力，提供精密的镀膜性能。在不破坏真空的情况下，可以大沉积四种薄膜。
产品货号：IL-50 多舱体式等离子体增强化学气相沉积/蚀刻系统 （装 产地：原装进口 等离子处理系统 价格：询价 点击数：1835 商家询价
产品介绍：等离子体表面改性处理仪（P-5）P-5等离子体表面改性处理仪是一款经济型的台式等离子体表面改性处理仪，该款台式等离子体表面改性处理仪提供了许多功能，而这些功能是其它竞争设备上无法找到的。PE-5台式等离子体表面改性处理仪是专门为小型生产企业，研发实验
产品货号：P-5 产地：进口 价格：询价 点击数：5697 商家询价
产品介绍：近红外(NIR) 食品分析仪、近红外食品分析仪、近红外(NIR) 食品成份分析仪、近红外(NIR) 食品品质分析仪福德查™近红外(NIR)食品分析仪可配置用于透射或反射的食品分析应用，该近红外(NIR)食品分析仪具有防水密封不锈钢机壳，可方便维护及清洗。专利电磁控
产品货号：福德查近红外(NIR) 食品成分分析仪 产地：原装进口福德查近红外(NIR) 食品成分 价格：询价 点击数：3075 商家询价
产品介绍：P-20R 卷对卷等离子刻蚀系统 P-20R卷对卷等离子系统是一款专门配备连续给料驱动的等离子系统，适用于连续柔性基片及卷装材料。 卷对卷等离子系统可以喂入宽幅为50.8毫米至609毫米，轴径为254毫米的成卷材料。 卷对卷等离子刻蚀系统纵览卷对卷等离子刻蚀系统提
产品货号：P-20R 产地：进口 价格：询价 点击数：1612 商家询价
感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉积、深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）、BM8-III 感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉积系统高性能深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）等离子处理系统
产品货号：BM8-III感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉积系统（深反应 产地：原装进口感应耦合等离子（ICP）刻蚀及沉 价格：询价 点击数：1387 商家询价
PDMS芯片键合仪、PDMS芯片等离子键合机、PDMS微流控芯片氧等离子体键合仪GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G PDMS芯片键合仪、PDMS芯片等离子键合机、PDMS微流控芯片氧等离子体键合仪）是
产品货号：GPC-102 APDMS芯片键合仪、PDMS芯片等离子键合 产地：进口PDMS芯片键合仪、PDMS芯片等离 价格：询价 点击数：1932 商家询价